1. Rendimiento de recubrimiento y grabado con haz de iones de alta calidad
Este sistema emplea tecnología de grabado y recubrimiento por haz de iones para producir películas delgadas densas, uniformes y de grano fino con fuerte adhesión al sustrato. En comparación con la pulverización catódica con magnetrón, los recubrimientos depositados con haz de iones– exhiben un tamaño de grano más pequeño con el mismo espesor de película, lo que da como resultado superficies más lisas y artefactos superficiales reducidos. Estas características respaldan la obtención de imágenes de alta resolución y recubrimientos conductores estables para microscopía electrónica y aplicaciones analíticas relacionadas.
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